芯研所9月26日消息，近日美国开发和商业化原子精密制造技术公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系统——ZyvexLitho1TM。它没有采用EUV光刻技术，而是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式。实现了0.768nm的原子级精密图案和亚纳米级分辨率芯片的制造，远超EVU光刻机的精度。
目前，5nm级及以下的尖端半导体制程必须采用EUV光刻机，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻机，售价或将高达4亿美元。但想要实现1nm以下更先进的制程，就连最新的光刻机也无法实现。ZyvexLitho1TM系统则是直接将芯片制造工艺带到了亚纳米级，或许在不久之后就将正式投入商用，相信随着这项系统的使用，芯片产业必将迎来更大的发展。
