ASML近日宣布，已开始向英特尔公司交付业界首款具有0.55数值孔径(High-NA) 的极紫外线(EUV)光刻工具。最初的High-NA机器将用于了解其在英特尔18A(18埃，1.8纳米级)制造工艺上的工作原理，这有望使这家CPU巨头领先于其竞争对手台积电和三星。
ASML的一位发言人表示:“我们正在发货第一套高NA系统，并于今天在社交媒体上宣布了这一消息。”“它将按照计划和早些时候宣布的那样交给英特尔。”
正如9月份宣布的那样，ASML本周开始向英特尔Intel交付High-NA极紫外光刻工具。该装置将从荷兰的费尔德霍芬运到俄勒冈州希尔斯伯勒附近的英特尔基地，并将在未来几个月内在那里安装。这台机器非常大，需要13个巨大的集装箱和250个板条箱来运输。据信，每个高High-NA EUV扫描仪的成本约为3亿至4亿美元。
据估计，该光刻机将从2026年或2027年起用于商业芯片制造。
